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鎳納米粒子在MoS2上的光閘效應實現高性能可見-近紅外光光檢測

重點摘要

近期中國科學院Weimin Liu與西北工業大學Weihong Qi團隊發表一項研究。

  • 通過引入MoS2中的硫空缺,實現了縮小能隙,從而實現了寬帶光檢測。
  • 在MoS2上裝飾鎳納米粒子引發了提高性能的光閘效應。
  • 在532和980納米照射下,實現了21和1.38 A W−1的高靈敏度。
  • 在532和980納米照射下實現了9 × 1012和8.9 × 109 Jones的檢測度。
  • 利用鎳納米粒子實現了更快的光響應時間。
  • 這種納米復合策略優化了MoS2中的缺陷工程,實現高性能的光檢測器。

研究背景

二維硫化鉬(MoS2)是光電應用中的有望材料,包括光檢測器,具有高載流子遷移率、強光吸收和可調謙帶隙等特性。通過引入MoS2中的硫空缺,可以通過縮小能隙並創建缺陷態來增強寬帶光檢測性能。然而,硫空缺也可能導致載流子捕獲,進而降低光響應速度。過渡金屬納米粒子如鎳(Ni)可以與MoS2發生相互作用,但尚未探索鎳納米粒子提高MoS2的光檢測能力的潛力。這項工作旨在通過缺陷工程和鎳納米粒子裝飾來開發一種MoS2基光檢測器,實現可見光和近紅外波長下的增強靈敏度,光響應速度更快。納米復合策略旨在克服MoS2中使用缺陷態的問題,實現高性能的寬帶光檢測器。

研究成果

  • 熱處理剝離的MoS2引入了比僅剝離更多的硫空缺,XPS和EPR數據證實了這一點。
  • 硫空缺創建了缺陷態,通過縮小能隙實現了MoS2的寬帶光檢測。
  • 在MoS2片上裝飾鎳納米粒子引發了無閘光檢測效應。
  • 這種光閘效應源於鎳向MoS2的電荷轉移,導致電子減少並積聚在鎳納米粒子中。
  • 利用Ni/MoS2器件實現了532納米照射下21 A/W和980納米照射下1.38 A/W的高靈敏度。
  • 利用Ni/MoS2器件實現了532納米照射下9 x 1012 Jones和980納米照射下8.9 x 109 Jones的高檢測度。
  • 利用鎳納米粒子實現了50毫秒的更快光響應時間,而532納米照射下則為120毫秒。
  • 光閘效應抑制了陷阱輔助復合並加速達到平衡,解釋了更快的響應速度。
  • 性能改進在靈敏度,檢測度和速度方面優於以前MoS2基光檢測器的報告。
  • 納米復合策略成功優化了MoS2中的缺陷工程,實現高性能的寬帶光檢測器。

研究方法

  • 通過將MoS2片剝離自體晶體,使用膠帶剝離。
  • 通過濕浸鎳前驅體溶液,然後H2還原熱處理創建Ni/MoS2混合結構,在MoS2片上沉積鎳納米粒子。
  • 通過熱處理過程在MoS2片中引入硫空缺。
  • 通過將MoS2片轉移到預先圖案化的金電極的SiO2/Si基板上製作光電探測器器件。
  • 在532納米和980納米激光照射下測量光電性能。進行XPS、拉曼、TEM等表徵。

結論

總之,我們的研究成功地通過引入硫空缺並在MoS2多層光檢測器中添加鎳納米粒子,提高了光電性能。硫空缺實現了有效的近紅外光光檢測,而光伏效應導致電子流入鎳納米粒子,充當負電壓閘。由此產生的光閘效應抑制了陷阱輔助復合並增強了載子的傳輸,從而優化了靈敏度、應答度和響應速度。這種新型的金屬-半導體混合光檢測機制提供了一種替代方案,可以減小缺陷工程的不利影響,實現基於MoS2的光電器件的高性能、寬波段光檢測。

MoS2 裝置的 I-V 曲線。

MoS2 裝置的時間依賴性光響應。

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